TSMC: s första torra EUV-maskrengöringsteknik, ackumulerat sparat över 470 miljoner yuan

Enligt Taiwan media rapporter, har TSMC infört torr extrem ultraviolett (EUV) maskrengöringsteknik för att förbättra energi och resurseffektivitet, och kumulativt skapat förbättringsfördelar med NT $ 2 miljarder (ungefär 476 miljoner RMB).

TSMCs innovativa torra EUV-maskrengöringsteknik har introducerats för testproduktion 2018. År 2019 har den vidareutvecklat automatiseringen av torr EUV-maskrengöringsteknik. Det har introducerats fullt ut i 12-tums wafer-fab-område för massproduktion i januari i år.

Det är underförstått att TSMC har förnyat och utvecklat torr EUV-maskrengöringsteknik för att snabbt avlägsna damm genom torr teknik och ersätta den våta rengöringsmetoden som kräver rent vatten och kemikalier; samtidigt använder den analysteknologi på nano-nivå för att noggrant lokalisera dammkällan och eliminera den alls. Källan till föroreningar, 2020 kommer dammreduktionsgraden att överstiga 99%. Hittills har den ackumulerade vattenbesparingen varit cirka 735 ton och användningen av kemikalier har minskat med cirka 36 ton.

Dessutom har införandet av kemtvättsteknologi kraftigt förkortat underhållsfrekvensen och tiden för masken, ökat användningsgraden för masken med mer än 80% och förlängt livslängden för den avancerade EUV-masken, vilket skapat en kumulativ förbättringsfördel med 2 miljarder yuan.